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第二百零三章 奠基石

线光通过液体介质后,其光源波长会缩短。从而起到精微刻制的作用。

    用主流的三百六十纳米技术来说,采用折射率为一点五的液体,其光波就能变成二百四十纳米!

    而寰宇公司费尽心机弄回来的二百四十八纳米地光刻机,采用了一点五地浸入式技术,立即就摇身一变,成为一百六十五纳米光刻机,远远超过现有的光刻技术!

    其实浸入式光刻,并非寰宇公司首创。但真正长期将其作为一个研究项目的研究单位,全世界也只有寰宇公司。

    光刻技术的发展,从一代技术向下一代技术发展地时候。总会出现瓶颈。

    因此,早在八零年。就有科学家采用浸入技术,成功地提高了光刻效果。然而,由于浸入式光刻技术,它的液体很容易污染光学镜片,所以主流光刻技术研究,只是将其作为一个过渡手段,没有重视。一旦下一代光刻技术成熟,便毫不犹豫地抛弃浸入式光刻。

    但寰宇公司不同。

    汪工等精密仪器公司的研究人员。虽然使出浑身解数。但限于光学技术的制约。在光刻机上,总是落后于西方。

    穷则变。变则通。

    他们为了改进光刻精度。把所有可以利用的技术,都使用遍了。最后,经过反复研究。他们在不放弃光学研究地同时,将主要精力。都投入了浸入式光刻技术的研究,并于近期,取得了极大地成果。

    他们开发出了全套地浸入式技术。

    如折光率不同的液体,就从一点五五到二不等的多种浸入式液体材料。

    而影响到光刻效果的液体泡沫、透光率、专用光刻胶等等相关研究,也取得了巨大的成功,已经初步可以实用化。

    精密仪器实验室,已经选定了一种特制液体,作为浸入式光刻技术地主要材料。

    这种液体的折射率高达一点七。通过实验和技术手段改进,其透光率也完全可以应用于大规模生产。

    只要汪工等将光刻机改造成功。寰宇公司将马上得到两套一百四十五纳米超高精度的光刻机。只此一项,就可以让寰宇公司遥遥领先世界水平!

    寰宇公司也对这项成熟技术。进行了最严密的保护。

    在国外热衷于更高精度开发光学镜片、而忽略浸入式光刻技术地时候,他们已经为此作了大量的工作。积累了丰富的经验。

    这样,哪怕国外推出再先进地光刻机,他们也马上可以利用浸入式技术。超过对手。

    而且,这种


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